工藝冷卻水主要用于各種工藝設(shè)備的冷卻
日期：2024-03-16
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UPVC和CPVC管道系統(tǒng)具有耐腐蝕、耐沖擊、不易變形、內(nèi)壁光滑、不易結(jié)垢、保溫性好、不導(dǎo)電、粘接方便、使用壽命長等特點。因此，其他金屬管道系統(tǒng)逐漸取代了性價比高、施工成本低的優(yōu)點，UPVC和CPVC管道系統(tǒng)維護方便快捷，無需長時間停機，造成巨大損失。因此，UPVC和CPVC管道系統(tǒng)是目前工業(yè)管道設(shè)計的選擇。
UPVC管道系統(tǒng)允許的較高使用溫度為 60 ℃，長期使用溫度為 45 ℃。適用于輸送溫度低于45℃的腐蝕性介質(zhì)；也可用于輸送普通壓力流體，一般用于給排水管道、農(nóng)業(yè)灌溉管道、環(huán)境工程管道、空調(diào)管道等。
CPVC管道系統(tǒng)允許的較高使用溫度為 110 ℃，長期使用溫度為 95 ℃。適用于在標準允許的壓力范圍內(nèi)輸送熱水和腐蝕性介質(zhì)。一般用于石油、化工、電子、電力、冶金、造紙、食品飲料、醫(yī)藥、電鍍等工業(yè)領(lǐng)域。
電子清潔廠工藝供水主要包括工藝冷卻水和純水。
工藝冷卻水主要用于各種工藝設(shè)備的冷卻。由于工藝設(shè)備中有許多毛細管，為了避免毛細管結(jié)垢，工藝冷卻水的水質(zhì)也提出了相應(yīng)的要求。
純水主要用于清洗各種電子產(chǎn)品，純水的使用可以避免水中雜質(zhì)對電子產(chǎn)品的污染。電子工廠純水的主要特點不僅是水的高電阻率，而且是顆粒度和總有機碳（TOC）、總硅、溶解氧（DO）、各種離子的含量也有不同的要求。
工藝系統(tǒng)描述2.1工藝流程圖詳見附圖，主要工藝路線如下：原水→原水箱→原水泵→氧化劑加藥裝置→UF裝置→UF原水箱→RO原水泵→還原劑加藥裝置→5μm安全過濾器→阻垢劑加藥裝置→一級高壓泵→一級反滲透膜組→一級RO產(chǎn)水箱→NaOH加藥裝置→二級高壓泵→二級反滲透膜組→RO產(chǎn)水箱→RO增壓泵→TOC去除器→脫氧膜組1→EDI裝置→氮氣密封EDI產(chǎn)水箱→超純水泵→TOC去除燈→拋光混床→終端精密過濾器→超純水使用點。
用水點1：純水泵1→換熱器→TOC去除器→脫氧膜組2→一級拋光混床→二次拋光混床→終端濾器→用戶終端工藝用水點2用水點2：→純水泵2→TOC去除器→精濾器→用戶其他工藝用水點用水點用水點3：→二級RO產(chǎn)水箱→去用戶的其他工藝用水點。
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